赵成明
,
王丹
,
马国靖
,
罗会月
,
申载官
,
宋勇志
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20163102.0138
目前,TFT-LCD行业已经趋于成熟.各大面板厂都在提升自身产品的竞争力:高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等.配向膜作为LCD面板的主要构成起着重要的取向作用,其印刷的质量对产品良率起很大影响.喷墨打印作为大世代线配向膜印刷方法被越来越广泛的应用,但是其带来的印刷性不良也多种多样.本文重点介绍了阵列基板的设计对配向膜的影响.通过实验验证得出,阵列基板深孑设计对配向膜扩散起到了阻碍扩散的不良影响.从此结论出发,从配向膜印刷工艺和设计提出改善方案并取得了改善效果.
关键词:
聚酰亚胺
,
配向膜
,
喷墨打印
,
深孔
李田生
,
陈旭
,
谢振宇
,
徐少颖
,
闵泰烨
,
张学智
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142905.0674
为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,之前做过钝化层沉积工艺优化来减小液晶面板阵列工艺中连接像素电极与漏极的过孔尺寸的研究.本文在此基础上进行过孔刻蚀工艺的优化,从而最终达到进一步减小过孔尺寸实现TFT-LCD小型化与窄边框化的趋势.通过设计实验考察了影响过孔大小刻蚀主要影响因素(功率、压强、气体比率、刻蚀速率选择比).实验结果表明,在薄膜沉积优化的基础上可使过孔的尺寸再降低10％～20％.对其进行了良率检测与工艺稳定性评价,最终获得了过孔尺寸减小的方案,并成功导入到产品生产中,从而提高了产品品质.
关键词:
钝化层
,
刻蚀
,
过孔
